Das Top 5100 ist Elmets neuestes Präzisions-Dosiersystem für die Spritzgiessverarbeitung von Flüssigsilikonkautschuk (LSR). Für 20- und 200-Liter-Fässer geeignet, ersetzt es die weltweit seit fast zehn Jahren erfolgreiche Vorgängerversion Top 5000 und fügt sich damit in den oberen Leistungsbereich der Dosiersysteme des Herstellers ein. Dessen Angebot startet mit dem 20-Liter-System Top 700 und reicht bis zum komplett ausgestatteten Flaggschiff Top 7000 für 20- und 200-Liter-Gebinde, mit dem das neue Top 5100 konzeptionell eng verwandt ist.
Zu den Weiterentwicklungen gegenüber dem Vorgänger gehören die kompaktere Bauweise des Top 5100, die weniger Aufstellfläche erfordert, die dichtungstechnisch optimierte Pumpentechnologie für eine nochmals verlängerte Lebensdauer, die höhere Auflösung der Volumenzähler für noch mehr Präzision in der Produktion und die überarbeitete und dadurch effizienzsteigernde Software. Die Einhaltung strengster Sicherheitsstandards (EN ISO 13849-1) sorgt für maximalen Schutz der Arbeitskräfte. Das CE- und UL-zertifizierte Top 5100 kann optional auch FDA-konform ausgeführt werden. Die bei Elmet standardmässig phthalatfreie Ausführung der Dosiersysteme und ihrer materialberührenden Komponenten ist eine entscheidende Voraussetzung für deren Einsatz in den Bereichen Lebensmittel, Healthcare und verwandten Branchen.
Das neue Top 5100 ist mit der zur Fakuma 2024 vorgestellten Pumpeneinheit M ausgestattet. Diese ermöglicht einen auf 230 bar gesteigerten Förderdruck, so dass sich damit alle marktüblichen LSR-Materialien in einem erweiterten Viskositätsspektrum von 0,001 Pas bis 3000 Pas verarbeiten lassen. Dies schliesst russ- oder mineralgefüllte sowie selbsthaftende Materialien, die zum Viskositätsanstieg neigen, ebenso ein wie abrasive, zum Beispiel thermisch leitfähige Materialien für den Bereich E-Mobilität.
Der modulare Aufbau der Verarbeitungseinheit mit integrierter Kühlung und die anwenderfreundliche Klammerverbindung der Elemente erleichtern Reinigungs- und Wartungsarbeiten. Die Volumenzähler mit ihrer hohen Auflösung von 3,9 μl pro Impuls bewirken beim Mischen der Komponenten A und B eine zusätzliche Stabilisierung des Prozesses.
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